不用光刻机?国产“芯粒”技术获5nm突破,美芯巨头直接签约5年

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> 在芯片领域,我国为了进一步发展我国芯片产业,缩小与科技发达国家的差距。我国加大科技投入,组建科研团队,创立实验室研发芯片产品。

现阶段,我国在芯片产品上取得重大突破,成功研发出 5nm 芯片产品。这项技术突破震惊了美国,吸引美芯巨头产业与中国签订 5 年合约,从中国进口国产“芯粒”。中国的芯片产品到底有多好,能够吸引 美芯 巨头签约?

一、国产优质芯片产品

芯片制造技术十分复杂,需要极为精准的测算、研究,经历上千次上万次的实验,才能研发出来。研发团队制成一件芯片产品,通常需要采用精密的仪器仔细估算,经历上百道步骤工序,因此,芯片产品的制作成本极高,需要耗费大量人力和物力资源。

目前,高端光刻机的售价高达上亿美元,哪个国家能够拥有高端光刻机,将会对该国科技发展有很大帮助。光刻机的精度很高,能够反映不同芯片线路图案,研发芯片产品,需要光刻机的参与和配合。研发人员可以在光刻机的照射下,采用先进制作工艺,合成高端半导体材料,制成高端芯片产品。

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因此,如果想研发高端芯片产品,光刻机必不可少。但是全球光刻机资源十分有限,ASML 公司是全球唯一一家能够生产出 EUV 光刻机的公司,该公司已经有几十年的历史了,最早靠售卖电子零部件产品起家,后来逐步组建专业研发团队,研发光刻机产品,不断提升光刻机的精度。

中国研发团队深知高端光刻机资源的有限性,难以从外国公司手中购买到此款产品。芯片研究中心决心尝试其他途径,进一步提升芯片产品的质量,在研究的过程中,科研团队经过不懈努力,探寻出芯粒技术。

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芯粒技术属于一种封装技术,将两颗独立芯片组装在一起,集合成处理器芯片。这项技术不易操作,需要研究人员采用合适的方式和手段,将两颗独立芯片实现完美拼接。芯片的密度很小,稍有差池,便无法合缝对接,这将影响芯片产品的性能,降低芯片产品的质量。

采用芯粒技术时,最好采用统一的标准,同时需要考虑功耗问题,减少资源消耗,提高芯片产品的精度和密度。我国已经在芯粒技术上取得重大科技突破,成功研发出 5 nm芯片。这个消息十分振奋人心,这代表着我国在芯片领域取得了突破性的进步。

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二、推广应用“芯粒”技术

研发出 5nm 芯片的是一家名为通富微电的公司,该公司已经将这项技术向有关部门申请产品认证,并在一定范围内推广适用,探究此项技术推广的可行性。现阶段,该公司已经收获了第一批客户资源,计划在下半年将 5nm 芯片产品实现量产,进一步扩大产品的推广适用范围。

美国芯片公司 AMD 听说通富微电取得的这项技术突破后,派工作人员前往中国,参观生产车间,学习先进的封装技术,并发出合作请求,与通富微电签订了 5 年的合作意向书。通富微电取得这项技术成就,让国产半导体产品在世界站稳定了脚跟。

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不仅只有光刻机能够提供封装技术,芯粒同样可以。通富微电计划下一步进军国际市场,扩大公司的服务领域和服务范围,向全球市场提供封测业务,推广芯粒封装技术。

三、芯片技术的发展

芯片是手机、电脑等高科技产品的重要核心组件,全世界科研人员不断努力,逐步提高芯片产品的精度和密度。芯片产品不断发展,从微米精确到纳米,在纳米的范围内又取得新的技术突破,中国已经成功研发出 5nm 芯片,逐步摆脱对其他芯片发达国家的依赖。

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目前,中国科研团队进军 3nm 领域,试图研发出更高精度的芯片产品。不仅如此,中国芯片公司与其他科技公司开展合作项目,共同研发高端芯片产品。

不用光刻机也能研发出高精度芯片产品,国产“芯粒”技术成功解决了这项技术难题,成功研发出 5nm 芯片。美芯巨头公司看中了这项技术,直接与中国公司签约 5 年。

关于这件事情,你有什么看法呢?

原文链接:https://m.163.com/dy/article/HL1L7PCA0553FM9V.html

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追风者
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