从7nm到5nm芯片:中国国产光刻机的突破,从告别自嗨开始!

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从 7nm 到 5nm 芯片:中国国产光刻机的突破,从告别自嗨开始!

现在说到光刻机,我国就有很多企业都在关注,虽然国际方面因为美国的关系,不敢进口给我国高端的机型,但是对自主研发这块,我国还是能够进行突破,我国哈工大公布了研发成果,表示能够解决 7nm 支撑的光刻机,还获得光电仪器首届“金燧奖”。

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甚至有的国内公司开发出 SAQP 技术,可以绕开 EUV 光刻机的情况下,达到 5NM 制程的精度,这种情况,让更多的网友欢呼起来。

很多网友还没搞清楚情况,就开心地自嗨起来,认为中国已经能够解决光刻机的瓶颈,可以实现不断升级的光刻机技术。

实际上我国的光刻机技术进步,要从告别自嗨开始,正视不足,潜心研发,才能真正达到突破。

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虽然我国去年有光子芯片的量产生产线已经打造出来,但是距离真正的突破光刻机技术,还有很远的科研之路。而且我国的研发都是绕开了传统的硅基芯片制造工艺,甚至还能生产量子芯片,这种另辟蹊径固然值得欢呼和雀跃,但是也不能忽视,在光刻机领域我国还面临诸多现实的问题。

半导体行业的技术门槛非常高,升级的条件也非常苛刻,研发的细节问题很多都有衍生的品类,可以说半导体行业是个能无限扩容的领域,目前世界上还没有国家达到这个研发的天花板。

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未来的研发走向,还需要根据主流技术继续锤炼出新。现在我国的半导体市场,无论是上游的软件和材料设备,还是中游的芯片封装和测试,以及下游的各类电子产品和配件等等,都有着诸多需要突破的空间,并不是已经掌握了研发密码。

甚至中国半导体产业被称为进行入了黑暗森林时期,极高的技术含量让其经受的考验也诸多。

我国的科学家也指出,半导体产业因为技术要求太高,无论是任何一种材料和一个小小的不起眼的配件,都可能制约竞争对手。也就是说,在这个领域,目前还没有全能冠军。

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我国不能盲目自大的原因是,现在国内的半导体产业发展,还有很多的明显差距,专业人才的缺乏和技术经验的不足,都是制约这个行业发展的阻碍之一。

如何培养和提升人才的后备力量,提高技术含量对于产业升级的推动,怎样突破目前西方国家对我国这个产业的阻挠和封锁,都是现实存在的问题,也都是解决起来很棘手的问题。

美国对我国的打压已经毫不掩饰,发布的芯片法案,就是针对我国半导体产业,面对这些现实问题,中国网友需要告别自嗨,才能冷静下来看看真实的现状。思考一下未来发展的路,到底要怎样走。

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为什么说中国企业投入了巨额资金在半导体研发,还是让这个产业进入了暗黑森林?这是因为发展速度一味求快,推进规模和框架,却让技术和质量没能及时赶上来。我国在这个领域的大部分订单和现有的产能,依然在延续低端加工组装,核心的高端制造业务还是控制在美国等西方手里。

而且说半导体产业目前在黑暗森林并非危言耸听,现在的关于光刻机和芯片等研发的进程,都是在实验室的数据中,真正能落实到量产和生产线的,还会有很悬殊的路要走,才能最终落地。

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在这个行业,我国以往的做法就是购买设备,从国外花高价引进技术,购买设备要推动快速生产,但是规模框架搭起来了,自主研发的进程非常缓慢,导致真的出现了行业竞争时,一旦对手限制技术和设备,就应对乏力了。

当时是购买设备就能马上生产,确实比自己研发建造要快得多,但是这些技术维护维修和后期的升级,知识产权都是人家的,并非是我们掌握,就算花钱买都没有主动权。

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不仅是光刻机,芯片的窘境也是如此,很多企业当时追求扩大规模,忽视了质量,导致很多问题积累下来,没能得到及时的解决,现在面对西方的打压,以及很多基础的研发还是无法避开,其实很多科研没有捷径可走。

现在芯片高精度制程方面,我国还是有受制于人的困境,很多高新企业在想办法解决和克服,这也是需要一个时间,才能真正有突破和进展。

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尤其像光刻机技术我国落后几十年的时间,不是一蹴而就能超越和追赶,也不是单一的实验室突破数据就能全面解决,所以说现在不能过于乐观,说光刻机技术突破了还为时尚早。

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