又一家国产芯片实现5nm芯片量产,留给ASML犹豫的时间不多了

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近日芯原股份表示 5nm 系统芯片一次流片成功,代表着国产芯片又迈出了重要一步,而且由于芯原股份的特殊定位,将有助于更多国产芯片实现先进工艺芯片的量产,这为中国芯片打破芯片制造工艺瓶颈提供支持,震撼了 ASML。

芯原股份的定位是一家芯片 IP 授权企业,即是它自己不直接向市场推出芯片,而是芯片设计代加工企业,即是为手机、平板电脑等芯片设计企业开发定制化解决方案,降低芯片企业开发先进芯片的难度。

此外芯原股份考虑到国内芯片制造技术的限制,开发了芯粒技术,即是将不同功能的芯片集成在同一颗芯片中,提升芯片性能,芯粒技术也是全球当前正积极开发的技术之一,可以有效提升成熟工艺的性能,这次流片的芯片正是集上述功能于一起的芯片。

当前国内最先进的芯片制造工艺是 14nm,目前中芯国际正推进 N +1、N+ 2 工艺,预计可以接近 7nm 工艺,与芯原股份的芯片设计方案叠加就可以达到 5nm 工艺的性能,这对于中国芯片来说无疑是巨大的进步。

此前富满微等国内芯片企业也已实现了 5nm 封装技术,同样有助于国产芯片突破芯片制造工艺的限制,获得先进性能的芯片,业界人士认为达到 7nm 的性能就能满足中国制造九成的芯片需求,而达到 5nm 基本上能满足中国制造的绝大部分需求。

阻碍中国推进先进芯片制造工艺的正是 ASML 的 EUV 光刻机,目前仅有 ASML 能生产 EUV 光刻机,不过 ASML 受制于美国而未能对中国出售 EUV 光刻机,早在 2018 年中芯国际就支付了 1.2 亿美元订购 EUV 光刻机,然而直到目前尚未交付。

中国芯片行业显然不会坐等,研发先进的芯粒技术正是打破芯片制造工艺限制的一个路径,随着中国的芯粒技术突破到 5nm,ASML 的 EUV 光刻机对中国芯片制造行业的重要性正在下降,而这对 ASML 将是打击。

目前全球采购 EUV 光刻机的芯片制造企业已非常有限,日本芯片企业已研发绕开 EUV 光刻机的 NIL 工艺,美国芯片企业美光也已研发绕开 EUV 光刻机的 1β 工艺,台积电由于先进工艺产能过剩已不会大规模采购 EUV 光刻机,Intel 的 Intel 4 工厂已完成设备进驻,如此情况下中国芯片其实已成为 ASML 最后一个需要采购 EUV 光刻机的大客户。

如果 ASML 无法从中国市场获得订单,那么 ASML 的业绩可能会因此而大幅衰退,日本光刻机则可以借助中国市场重振雄风,ASML 回想当年被日本光刻机吊打的日子就不寒而栗。正是有鉴于此,ASML 和它所在的荷兰都已发声表示 ASML 是一家欧洲企业,应该拥有自由出货的权利,近期据称荷兰正与美国商讨允许 ASML 自由出货 EUV 光刻机,都可以看出中国在先进性能芯片方面取得的进展已让 ASML 紧张了。

中国知名院士倪光南指出先进技术是求不来的、买不来的,只有自立自强,而中国在先进芯片技术方面持续的突破已让外媒震惊,显示出中国芯片行业自强不息的精神,相信 ASML 很快会做出正确的决定,或许 EUV 光刻机对中国出货的时间正在接近。

原文链接:https://m.163.com/dy/article/HNLMT1BF05118AAI.html

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追风者
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