不用光刻机,国产芯片也可以完成5nm?中科院紧急辟谣

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作为目前我国最需求的技术突破之一,5nm 芯片以及制造芯片的光刻机是拦在路上的一座“大山”。此前有报道称,中科院的技术得到突破,不用光刻机,国产芯片也可以完成 5 nm?这一消息实际上属于误读,中科院 也紧急出面辟谣。

据澎湃新闻报道,中科院的相关论文其实是超分辨率激光光刻技术,这和光刻机用的极紫外光刻是两码事,只是加工方法上听起来有些相似。前者用于光掩模也就是芯片制造中一个关键流程的衔接,与最终芯片制造和成型的关系不算很大。当然,这一技术的突破也是一件值得高兴的事。

芯片制造需要脚踏实地

报道指出,目前我国在相关技术上的掌握其实还远远不够,芯片制造本身需要脚踏实地的试验和研究,虽然理论上不存在问题,但技术和经验往往是决定成功与否的最重要标准。此前中科院发布的相关技术完全可以说是 5nm 芯片的相关技术,但距离掌握芯片制造的全工业流程还远远不足。必须清楚的是,由于起步较晚,我国在芯片领域虽然紧赶慢赶,但目前还只有 180nm 工艺的水平。

当然,这个工艺相比 5nm 虽然很远,但却也足够体现出中国的工业实力。必须清楚的是,目前没有一个国家能够靠自己制造 5nm 的芯片,哪怕是顶级的 ASML 公司,它制造芯片的光刻机其实也是通过美国、德国在内的全球各国科技企业的技术和生产能力得来的,指望我国在短短几年内能够掌握整个 5nm 工艺显然是不科学的。

因此,虽然中科院的紧急辟谣就像是浇了一盆冷水,但从另一个角度说,光掩模的 5nm 技术突破也算是我国朝着 5nm 芯片制造又进了一步。

作为全球掌握最多产业链的国家,中国完全可以说是全球最有希望完成一国制造 5nm 芯片的,不过这需要的是大量的资金投入和技术人员的科研,尤其还有大量的时间,这甚至无法通过各种方式来“加速”。

毕竟理论发展可以“纸上谈兵”,但真正的工业发展和技术的推进却还是需要人一步一步的走出来。在 5G 时代,中国其实已经取得了很多方面的领先,从大趋势上看,5nm 芯片的突破虽然困难,但基本是必然的,不过现在,把握好手上有的“牌”,尽可能提升技术能力和整体经济水平才是最为有效的手段。

不过又“十年”

实际上,从我国过去的发展道路就能看出,技术上的困局和垄断其实无处不在,光刻机和 5nm 芯片早就不是第一个了。但相比过去,现在的中国有强大的经济和军事实力作为保障,全球话语权更是史无前例得大,技术进步原本就需要平心静气地研究,而不是急功近利认为可以完成“奇迹”。

技术的突破总是曲折和漫长的,从目前的垄断情况看,没有个数年甚至十年以上可能都是做不到的,但中国的科研团队向来耐得住寂寞。在当前国家越发重视科研的大背景下,资金和人员的投入不断加大,对普通人来说可能无法忍受,但对年轻或者年长的科学家们而言,距离研究出结果不过是又一个“十年”而已。

当前,我国正全面步入信息化的时代,在部分尖端领域更是占据了全球的高点,针对 5nm 光刻机的攻关其实只是这其中最微小的一部分而已,普通人只需要静静等待即可,说不定哪天还会真的出现不需要光刻机就能制造芯片的“黑科技”。

(参考资料:澎湃新闻)

原文链接:https://m.163.com/dy/article/G46PT0S60535I9G9.html

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追风者
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